1、用于显示器上

靶材目前被普遍应用于平面显示器（FPD）上。近年来，平面显示器在市场上的应用率逐年增高，同时也带动了ITO靶材的技术与市场需求。ITO靶材有两种，一种是采用铟锡合金靶材，另外一种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结。

2、用于微电子领域

靶材也被应用于半导体产业，相对来说半导体产业对于靶材溅射薄膜的品质要求是比较苛刻的。现在12英寸（300衄口）的硅晶片也被制作出来，但是互连线的宽度却在减小。目前硅片制造商对于靶材的要求都是大尺寸、高纯度、低偏析以及细晶粒等，对其品质要求比较高，这就要求靶材需要具有更好的微观结构。

3、用于存储技术上

存储技术行业对于靶材的需求量很大，高密度、大容量硬盘的发展，离不开大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多层复合膜是如今应用比较广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的TbFeCo合金靶材还在进一步发展，用它制造出来的磁光盘有着使用寿命长、存储容量大以及可反复无接触擦写的特点。