一、溅射靶材是什么

溅射靶材是安装在真空镀膜机上镀膜用的，可镀导电膜、绝缘膜、装饰膜，超硬膜、润滑膜、磁性膜等功能薄膜。

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。溅射靶材有金属，合金，陶瓷化合物等。

二、溅射靶材工作原理

溅射靶材主要是由靶坯、背板等部分构成，靶坯属于高速离子束流轰击的目标材料，是核心部分，在溅射镀膜的过程中，靶坯被离子撞击后，表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。因为高纯度金属强度较低，可是溅射靶材需要安装在专用的机台内完成溅射过程，机台内部为高电压、高真空环境，所以超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通过不同的焊接工艺进行接合，背板主要起到了固定溅射靶材的作用，以及良好的导电、导热性能。

三、溅射靶材的应用

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。