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著录信息

  • 专利名称:一种采用双波长结构光测量物体轮廓的方法
  • 专利类型:发明
  • 申请号:CN200510132886.6
  • 公开(公告)号:CN1330928C
  • 申请日:20051229
  • 公开(公告)日:20070808
  • 申请人:清华紫光股份有限公司
  • 发明人:辛建波,高宏
  • 申请人地址:100084北京市海淀区清华园清华大学紫光大楼
  • 申请人区域代码:CN110108
  • 专利权人:
  • 洛迦诺分类:
  • IPC:G01B11/24,G01B21/20
  • 优先权:
  • 专利代理机构:北京清亦华知识产权代理事务所
  • 代理人:罗文群
  • 审查员:向莉
  • 国际申请:
  • 国际公开(公告):
  • 进入国家日期:
  • 分案申请:

关键词

正弦调制,相位差,像素,投影仪,波长,白光,照相机,连续性约束条件,图像,测量表面形状,光学测量技术,算法稳定性,波长结构,测量精度,测量物体,三维形状,物体表面,组合波长,相关法,光场,解包,调制,照射,拍摄,计算机
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